等方性プラズマにより対象物の形状に問わず処理が可能。処理室サイズやRF出力仕様は用途に合わせカスタマイズできます。
各種粉体の表面改質処理が可能。有機物処理・親水化・分散化還元・ライトエッチングなどRF出力仕様は用途に合わせカスタマイズできます。
中型基板・フィルムなどの処理ができます。自動搬送システムの追加オプションも可能。電極サイズやRF出力仕様は用途に合わせカスタマイズできます。
Coming soon!
複数枚の中小型基板の一括同時処理が可能。縦方向に複数のステージ/電極を設置。1SETの高周波電源・マッチャー及びポンプ・メインバルブによる真空引き、放電を実現。
ダストフリー。クリーンなスポット照射型大気圧プラズマ処理。13.56MHz高周波を用い、工業向けプラズマ処理に最適。既存設備ラインに追加も可能。ロボット、駆動ステージなどとのシステム化も可能。
大気圧下でのプラズマ処理が可能。研究・実験用途などに最適。持ち運び可能なコンパクトサイズ。照射部は、ガンタイプとペンタイプが選べます。
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